C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
C07C 215/40 (2006.01) B01J 31/02 (2006.01) C07C 211/64 (2006.01) C25D 3/02 (2006.01) C25F 3/16 (2006.01) C07B 37/12 (2006.01) H01M 6/16 (2006.01) H01M 10/36 (2006.01)
Patent
CA 2423854
Ionic compounds having a freezing point of no more than 50 ~C, formed by the reaction of at least one amine salt of the formula R1~R2~R3~R4~N+~X-~ (I) with at least one hydrated salts, which is a chloride, nitrate, sulphate or acetate of Li, Mg, Ca, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Cd, Pb, Bi, La or Ce; wherein R1~, R2~ and R3~ are each independently a C~1 to C~5 alkyl or a C~6 to C~10 cycloalkyl group, or wherein R2~ and R3~ taken together represent a C~4 to C~10 alkylene group, thereby forming with the N atom of formula (I) a 5 to 11 membered heterocyclic ring, and wherein R4~ is hydrogen, or phenyl, or C~1 to C~12 alkyl or cycloalkyl group, optionally substituted with at least one group selected from OH, Cl, Br, F, I, phenyl, NH~2, CN, NO~2, COOR5~, CHO, COR5~ and OR5~, wherein R5~ is a C~1 to C~10 alkyl or cycloalkyl group, and X-~ is an anion capable of being complexed by the said hydrated salt. The compounds are useful as solvents, electrolytes, and catalyts, and have particular application in solvents/electrolytes for metal plating and electropolishing processes, in particular in chromium plating.
L'invention porte sur des composés ioniques dont le point de congélation n'excède par 50 DEG C, ces composés étant formés par la réaction d'au moins un sel amine de la formule R<1>R<2>R<3>R<4>N<+>X<-> (I) avec au moins un sel hydraté qui est un chlorure, nitrate, sulfate ou acétate de Li, Mg, Ca, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Cd, Pb, Bi, La ou Ce. Dans cette formule, R<1>, R<2> et R<3> représentent chacun, indépendamment, un alkyle C1 à C5 ou un groupe cycloalkyle C6 à C10, ou dans laquelle R<2> et R<3> réunis représentent un groupe alkylène C4 à C10, formant ainsi avec l'atome N de la formule (I) un noyau hétérocyclique de 5 à 11 éléments, et dans laquelle R<4> représente hydrogène ou phényle, ou un groupe alkyle ou cycloalkyle C1 à C12, éventuellement substitué par au moins un groupe sélectionné parmi OH, Cl, Br, F, I, phényle, NH2, CN, NO2, COOR<5>, CHO, COR<5> et OR<5>, R<5> étant un groupe alkyle ou cycloalkyle C1 à C10, et X<-> étant un anion capable d'être complexé par le sel hydraté. Ces composés sont utiles comme solvants, électrolytes et catalyseurs, et peuvent être appliqués notamment dans des solvants/électrolytes dans des procédés de galvanoplastie et de polissage électrolytique, notamment dans le chromage.
Abbott Andrew Peter
Capper Glen
Davies David Lloyd
Rasheed Raymond Kelvin
Tambyrajah Vasuki
Scionix Limited
Sim & Mcburney
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1904104