C - Chemistry – Metallurgy – 02 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
02
F
C02F 1/46 (2006.01)
Patent
CA 2537644
The present invention, equipped in a vessel such as cup, conducts in-water discharging that makes water plasma-ionized, whereby anions such as O3-, OH~. HOCl, H2O2 being capable of sterilizing bacteria in water and water with no bacteria can be supplied. An ionized-water supplying apparatus according to the present invention is composed of a vessel to contain water, an in-water ionizing unit to make water in the vessel plasma-ionized, and a power supplying unit to supply electric power for the in-water ionizing unit.
L'invention concerne un appareil placé dans un récipient tel qu'une tasse, comprenant des conduits une décharge d'eau, ce qui permet l'ionisation par plasma de l'eau d'entrée. Les anions tels que O¿3??-¿, OH?-¿, HOCl, H¿2?O¿2? sont capables de stériliser des bactéries dans l'eau et l'eau ne comportant aucune bactérie peut être utilisée. L'appareil d'alimentation en eau ionisée de l'invention comprend un récipient destiné à contenir de l'eau, une unité de ionisation de l'eau d'entrée permettant de ioniser par plasma l'eau dans le récipient, et une unité d'alimentation électrique permettant d'alimenter électriquement l'unité de ionisation de l'eau d'entrée.
Kim Anderson H.
Kim Ok Soon
Smiths Ip
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1851835