H - Electricity – 01 – J
Patent
H - Electricity
01
J
H01J 17/04 (2006.01) H01J 37/32 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01)
Patent
CA 2370991
An apparatus (10) using plasma discharge, that can be operated at atmospheric pressure and near room temperature using 13.56 MhZ rf power, is disclosed. The discharge produces a gas-phase effluent no hotter than 250 degrees centigrade at an applied power of about 300 W and shows no distinct non-thermal characteristics. The device (10) includes two planar parallel electrodes (14) employed to generate a plasma in the volume therebetween. Arcing is prevented in the apparatus by using gas mixtures containing He, which limits ionization, by using high flow velocities, and by properly spacing the rf-powered electrode.
La présente invention concerne un appareil (10) utilisant une décharge de plasma capable de fonctionner à la pression atmosphérique et proche de la température ambiante utilisant une puissance hyperfréquence de 13.56 MhZ. La décharge produit un effluent en phase gazeuse présentant une température d'au plus 250 ·C pour une puissance d'utilisation d'environ 300 W. et ne présente pas de caractéristiques non thermiques particulières. Le dispositif (10) comporte deux électrodes parallèles planes (14) utilisées pour la génération d'un plasma dans le volume se trouvant entre celles-ci. On évite les brûlures d'arc par l'emploi de mélanges gazeux contenant de l'hélium, limitant ainsi l'ionisation, en utilisant des vitesses à grand débit, et en maintenant bien espacées les électrodes alimentées en puissance hyperfréquence.
Babayan Steve E.
Henins Ivars
Hicks Robert F.
Selwyn Gary S.
Finlayson & Singlehurst
The Regents Of The University Of California
LandOfFree
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