C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/26 (2006.01) C23C 16/503 (2006.01) H01J 37/32 (2006.01)
Patent
CA 2207235
Diamondlike carbon is deposited on a deposition substrate (46) in a deposition apparatus (40) that can be evacuated and backfilled with a carbonaceous gas. A plasma (68) is generated in the gas by heating a filament (62) within the chamber (42) to produce electrons, and positively biasing the filament (62) with respect to the deposition chamber wall (44) to accelerate the electrons into the carbonaceous gas. The carbonaceous gas dissociates and ionizes in the resulting plasma (68) to produce positively charged carbon ions. The deposition substrate (46) within the chamber (42) is negatively biased with respect to the deposition chamber wall (44), accelerating the carbon ions so that they are deposited onto the surface of the substrate (46).
On dépose du carbone de type diamant sur un substrat (46) adéquat, dans un appareil de dépôt (40) dans lequel on peut faire le vide et que l'on peut remplir à nouveau à l'aide d'un gaz carboné. On génère un plasma (68) dans le gaz en chauffant un filament (62) placé dans la chambre (42), afin de produire des électrons, et en polarisant de façon positive ce filament (42) par rapport à la paroi (44) de la chambre de dépôt, afin de provoquer une accélération des électrons dans le gaz carboné, lequel se dissocie et crée une ionisation dans le plasma (68) ainsi généré, afin de produire des ions de carbone chargés positivement. On polarise de façon négative le substrat (46) placé dans la chambre (42), par rapport à la paroi (44) de la chambre de dépôt, ce qui provoque l'accélération des ions de carbone et le dépôt de ceux-ci sur la surface du substrat (46).
Matossian Jesse N.
Wei Ronghua R.
He Holdings Inc.
Hughes Electronics Corporation
Sim & Mcburney
LandOfFree
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