H - Electricity – 01 – S
Patent
H - Electricity
01
S
H01S 3/22 (2006.01) H01S 3/036 (2006.01) H01S 3/038 (2006.01) H01S 3/225 (2006.01) H01S 3/00 (2006.01) H01S 3/134 (2006.01) H01S 3/23 (2006.01)
Patent
CA 2458111
The present invention provides a modular high repetition rate ultraviolet gas discharge laser (4) light source for a production line machine. The system includes an enclosed and purged beam path for delivery the laser beam to a desired location such as the entrance port of the production line machine. In preferred embodiments, the production line machine is a lithography machine (2) and two separate discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator producing a very narrow band send beam which is amplified in the second discharge chamber. The MOPA system is capable of output pulse energies approximately double the comparable single chamber laser system with greatly improved beam quality. A pulse stretcher more than doubles the output pulse length resulting in a reduction in pulse power (mJ/ns) as compared to prior art laser systems. This preferred embodiment is capable throughout the operating life of the lithography system, despite substantially degradation of optical components.
La présente invention concerne une source lumineuse laser modulaire (4) à décharge de gaz ultraviolet à haute fréquence de répétition d'impulsions pour une machine d'une chaîne de production. Le système comporte un trajet de faisceau fermé et épuré pour la décharge d'un faisceau laser vers un emplacement souhaité tel que l'orifice d'entrée d'une machine de chaîne de production. Dans des modes de réalisation préférés, la machine de chaîne de production est une machine de lithographie (2) et deux enceintes de décharge distinctes sont prévues, dont une fait partie d'un oscillateur principal produisant un faisceau d'émission de bande étroite qui est amplifié dans la deuxième enceinte de décharge. Ce système d'oscillateur principal/amplificateur de puissance est capable d'émettre des niveaux d'énergie d'impulsions en sortie d'environ le double par rapport à ceux d'un système laser à enceinte unique et présente une qualité de faisceau considérablement améliorée. Un extenseur d'impulsions augmente par plus de deux fois la longueur des impulsions en sortie permettant d'obtenir une réduction en puissance d'impulsions (mJ/ns) par comparaison avec les systèmes laser de l'art antérieur. Ce mode de réalisation préféré est capable de fournir un éclairage à un plan de plaquette d'un système de lithographie plus ou moins constant pendant tour la durée de vie du système de lithographie, malgré une détérioration sensible des composants optiques.
Das Palash P.
Ershov Alexander I.
Grove Steven L.
Klene Brian C.
Pan Xiaojiang J.
Cymer Inc.
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1539682