G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/008 (2006.01) C07C 309/76 (2006.01)
Patent
CA 2236577
The invention relates to a light sensitive, aqueous alkali developing, negatively acting resist, comprising a phenolic resin as a binder, and a diazostilbene disulfonic acid ester light sensitive component, a solvent or mixture of solvents, and film forming and/or film stabilizing additives, and to a process for preparing the light sensitive component.
L'invention concerne un produit de réserve photosensible, révélable de manière alcalino-aqueuse et fonctionnant en négatif, s'utilisant pour produire des structures négatives de l'ordre du micron et du nanomètre. Ce produit de réserve contient comme constituant photosensible un ester d'acide disulfonique-diazidostilbène de la formule (I) où R<1> désigne un groupe de la formule (II) dans laquelle R<2>, n, X ont la notation mentionnée dans les revendications. Ce produit de réserve présente une sensibilité élevée dans la zone spectrale comprise entre 200 et 400 nm, ainsi qu'une solubilité remarquable dans le solvant utilisé. Les esters d'acide disulfonique-diazidostilbène de la formule (I) sont économiques et peuvent être obtenus en une synthèse simple à plusieurs étapes.
Bendig Jurgen
Grutzner Gabi
Sauer Erika
Schmidt Ines
Voigt Anja
Fetherstonhaugh & Co.
Micro Resist Technology Gmbh
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1697335