Lightwave-guide manufacturing process

G - Physics – 02 – B

Patent

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Details

26/128, 117/85

G02B 6/134 (2006.01) C03C 17/02 (2006.01) C03C 17/34 (2006.01)

Patent

CA 1244302

PRECIS DE LA DIVULGATION: Procédé de fabrication de guides d'ondes lumineuses comportant une couche-support plane en un matériau d'indice de réfraction relativement faible, une couche plane de pro- pagation des ondes lumineuses en un matériau d'indice de ré- fraction plus élevé que celui de la couche-support, enserrée entre deux bandes d'un matériau d'indice de réfraction infé- rieur au sein propre, et une couche plane de confinement des ondes lumineuses en un matériau d'indice de refraction plus faible que celui de la couche de propagation. On effectue au moins l'une des opérations de depot de la couche plane de propagation des ondes lumineuses ou de la couche plane de confinement par circulation dans un tube en silice pure de vapeurs d'un composé gazeux du silicium transformable en siIice et d'un composé gazeux d'un element dopant transfor- mable en oxyde de ce dernier, et chauffage des vapeurs à une température suffisante pour obtenir un dépôt d'une cou- che de silice dopée d'indice de réfraction différent de celui de la silice pure. On peut utiliser concurrement la diffusion ou l'implantation de dopants, ou leur élémination sélective.

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