G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 9/00 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
Patent
CA 2216705
An alignment system for use in semiconductor manufacturing that matches pairs of like edges of alignment marks. Grating type alignment marks are illuminated by a predetermined illumination pattern with the reflected and/or scattered electromagnetic radiation collected by a detector. Like edges are selected from the collected electromagnetic radiation and matched. A signal analyzer analyses the matched like edges and obtains alignment information. The matching of like edges results in relatively process insensitive detection of wafer a alignment marks. The distance between like edges is substantially less effected by wafer processing. Wafer alignment marks can thereby be more accurately detected, resulting in improved positioning and alignment accuracies. This improves and advances the technology use to manufacture semiconductor devices.
L'invention est un système d'alignement utilisé dans la fabrication des dispositifs à semi-conducteur pour apparier les bords correspondants de marques d'alignement. Des marques d'alignement en réseau sont éclairées selon une configuration prédéterminée avec un rayonnement électromagnétique réfléchi et/ou diffusé qui est recueilli par un détecteur. Les bords correspondants sont sélectionnés à l'aide du rayonnement électromagnétique recueilli et sont appariés. Un analyseur de signaux analyse les bords correspondants appariés pour obtenir une information d'alignement. L'appariement des bords correspondants permet d'obtenir une détection des marques d'alignement de plaquettes relativement insensible au traitement. La distance entre les bords correspondants est substantiellement moins perturbée par le traitement des plaquettes. Les marques d'alignement des plaquettes peuvent par conséquent être détectées avec plus de précision, ce qui améliore la précision des opérations de positionnement et d'alignement. Il en résulte une amélioration de la technologie de fabrication des dispositifs à semi-conducteur.
Lyons Joseph
Markoya Louis
Osler Hoskin & Harcourt Llp
Svg Lithography Systems Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1639258