C - Chemistry – Metallurgy – 10 – M
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
10
M
C10M 159/24 (2006.01) C07C 303/32 (2006.01) C07C 309/31 (2006.01)
Patent
CA 2213131
Low base number (LBN) sulphonates derived from high molecular weight sulphonic acids have low viscosity, are chloride free and are not skin sensitisers. In their preparation, neutralisation of high molecular weight sulphonic acids or partially neutralised soaps of high molecular weight sulphonic acids is completed by the use of a high base number sulphonate in conjunction with a carboxylic acid. The process does not require the use of chloride containing promoters and produces low chloride products which do not skin on exposure to air.
La présente invention concerne des sulfonates à faible indice d'acidité, dérivés d'acides sulfoniques de poids moléculaire élevé, et qui ont une faible viscosité, sont exempts de chlorures et ne sont pas des sensibilisants cutanés. Pour leur préparation, on procède à la neutralisation d'acides sulfoniques de poids moléculaire élevé ou de savons partiellement neutralisés d'acides sulfoniques de poids moléculaire élevé, en utilisant un sulfonate à indice d'acidité élevé, combiné à un acide carboxylique. Le procédé ne nécessite pas l'emploi de promoteurs contenant des chlorures, et permet de produire des produits à faible taux de chlorures qui ne forment pas de peaux quand ils sont exposés à l'air.
Alcock Kenneth
Bovington Charles Herbert
Cleverley John Arthur
Moulin Dominique
Borden Ladner Gervais Llp
Exxon Chemical Patents Inc.
Exxonmobil Chemical Patents Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1745480