C - Chemistry – Metallurgy – 08 – L
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
L
C08L 53/02 (2006.01) B32B 25/00 (2006.01) B32B 27/00 (2006.01) C08L 23/16 (2006.01)
Patent
CA 2609987
The presently described technology provides a low cost multilayer elastomeric film containing at least one layer of styrene block copolymer and at least one elastomer layer substantially free of styrene block copolymer such that the resultant film has a low permanent set substantially equal to or less than a film comprised of styrene block copolymer only. The elastomeric film may be used in elasticized features of various articles, such as disposable absorbent articles. Methods for producing the low cost elastomeric film having a low permanent set are also described.
La présente invention concerne un film multicouche élastomérique à faible coût contenant au moins une couche d'un copolymère séquencé de styrène et au moins une couche d'élastomère essentiellement exempte de copolymère séquencé de styrène, de façon à ce que le film résultant présente une faible déformation permanente essentiellement inférieure ou égale à celle d'un film composé uniquement de copolymère séquencé de styrène. Le film élastomérique peut être utilisé dans les éléments élastiques de divers articles, tels que des articles absorbants jetables. L'invention concerne également des procédés de fabrication de ce film élastomérique à faible coût présentant une faible déformation permanente.
Hoenigmann Martin
Sabbagh Amiel
Pain & Ceballos Llp
Pliant Llc
Pliant Corporation
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1699645