C - Chemistry – Metallurgy – 08 – K
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
K
C08K 7/22 (2006.01) C08L 71/02 (2006.01) C08L 81/00 (2006.01) C08L 81/02 (2006.01) C08L 81/04 (2006.01)
Patent
CA 2442563
The invention relates to a sealing mass with low density and improved tensile strength on the basis of sulfur-containing polymers such as on the basis of polysulfide, polyether or/and polytioether that has a density of not more than 1.3 g/cm3 according to ISO 2781 and a tensile strength of at least 1.9 N/mm2 according to ISO 37 after curing. The invention further relates to a ground mass based on sulfur-containing polymers for producing a sealing mass that comprises at least one long-chain linear polymer and at least one short-chain branched polymer having a content in trifunctional molecules, or/and at least one multifunctional cross-linker with a number of functional groups n >= 3. The invention further relates to a method for producing a sealing mass according to which at least one base polymer is mixed with at least one adhesion promoter and the at least one light filler, especially hollow filler, is added, a vacuum with a remaining pressure of less than 50 mbar being maintained during incorporation of the light filler.
L'invention concerne une masse d'étanchéité de faible densité et de résistance à la traction accrue, à base de polymères contenant du soufre, par exemple à base de polysulfure, de polyéther ou de polythioéther. La masse d'étanchéité selon l'invention présente, après durcissement, une densité ne dépassant pas 1,3 g/cm?3¿ selon ISO 2781 et une résistance à la traction d'au moins 1,9 N/mm?2¿ selon ISO 37. L'invention concerne également une masse primaire à base de polymères contenant du soufre, servant à la production d'une masse d'étanchéité et contenant au moins un polymère linéaire à chaîne longue et au moins un polymère ramifié à chaîne courte présentant une proportion de molécules trifonctionnelles, ou au moins un réticulant multifonctionnel avec un nombre de groupes fonctionnels n supérieur ou égal à 3. L'invention concerne également un procédé pour la production d'une masse d'étanchéité, selon lequel au moins un polymère de base est mélangé à au moins un promoteur d'adhérence, au moins une matière de charge légère, notamment un corps de charge creux, étant ensuite rajoutée. Selon l'invention, un vide présentant une pression résiduelle inférieure à 50 millibars est appliqué lors de l'incorporation de la matière de charge légère.
Bons Peter
Burock Heinz
Diehl Heiko
Diez Francisco
Paul Andrea
Chemetall Gmbh
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1348089