C - Chemistry – Metallurgy – 07 – H
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
H
C07H 15/04 (2006.01) A61K 31/728 (2006.01) A61P 11/02 (2006.01) A61P 11/06 (2006.01) A61P 17/00 (2006.01) A61P 27/14 (2006.01) A61P 37/08 (2006.01) C08B 37/08 (2006.01)
Patent
CA 2750188
A low-molecular-weight polysulfated hyaluronic acid derivative useful for prevention and/or treatment of an allergic disease. An agent for prevention and/or treatment of an allergic disease selected from pollinosis, allergic rhinitis, allergic conjunctivitis, atopic dermatitis, and asthma, represented by the following general formula (IA) or (IB); Image (I A) Image (I B) wherein n represents a number of 0 to 15; R's each independently represent a hydrogen atom or an SO3H group etc. 110
L'invention porte sur un dérivé d'acide hyaluronique polysulfaté de faible masse moléculaire utile dans la prévention et/ou le traitement de maladies allergiques. L'invention porte sur un agent préventif et/ou thérapeutique pour une maladie allergique choisie parmi la pollinose, la rhinite allergique, la conjonctivite allergique, la dermatite atopique et l'asthme, l'agent contenant soit un dérivé d'acide hyaluronique polysulfaté de faible masse moléculaire représenté par la formule générale (IA) ou (IB), soit un sel pharmaceutiquement acceptable correspondant, en tant que principe actif. [Dans les formules, n représente un nombre de 0 à 15 et les R représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe SO3H, etc.].
Asai Hiroaki
Azuma Atsushi
Goto Fumitaka
Hayashi Naohiro
Hayashi Takashi
Otsuka Chemical Co. Ltd.
Otsuka Pharmaceutical Co. Ltd.
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1598323