C - Chemistry – Metallurgy – 09 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
09
D
C09D 133/14 (2006.01) B05D 1/36 (2006.01) C09D 7/12 (2006.01) C09D 163/00 (2006.01) C09D 167/00 (2006.01) C08L 43/04 (2006.01) C08L 63/00 (2006.01)
Patent
CA 2187371
A mar and etch resistant film forming composition contains a polyepoxide which is essentially free of silyl moieties, a polyacid curing agent and an additive amount effective to improve mar resistance of a solution polymer of an ethylenically unsaturated monomer component containing a polymerizable alkoxy silane monomer. The film forming composition is particularly advantageous as a clear topcoat over a pigmented basecoat in a color-plus-clear automotive coating system.
Une composition filmogène résistante aux rayures et à l'attaque chimique contient un polyépoxyde qui est sensiblement exempt de groupes silyle, un agent durcissant du type polyacide et un additif en une quantité suffisante pour améliorer la résistance aux rayures. Cet additif est une solution d'un polymère d'un monomère insaturé d'éthylène et d'un monomère polymérisable du type alcoxysilane. La composition filmogène est particulièrement avantageuse pour réaliser une couche de finition transparente sur une couche de base colorée dans un système de revêtement couleur + couche transparente, destiné aux automobiles.
Das Suryya K.
Guerrieri Amy S.
Kesicki Stephen A.
Kilic Soner
Simpson Dennis A.
Borden Ladner Gervais Llp
Ppg Industries Ohio Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1751171