Measurement of waveplate retardation using a photoelastic...

G - Physics – 01 – J

Patent

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G01J 4/00 (2006.01) G01B 11/06 (2006.01) G01J 4/04 (2006.01) G01M 11/00 (2006.01) G01N 21/23 (2006.01)

Patent

CA 2297672

A practical system and method for measuring waveplate retardation. The system employs a photoelastic modulator (22) in an optical setup and provides high sensitivity. The analysis is particularly appropriate for quality-control testing of waveplates (26). The system is also adaptable for slightly varying the retardation provided by a waveplate (26) (or any other retarder device) in a given optical setup. To this end, the waveplate (26) position may be precisely altered to introduce correspondingly precise adjustments of the retardation values that the waveplate (26) provides. The system is further refined to permit one to compensate for errors in the retardation measurements just mentioned. Such errors may be attributable to static birefringence present in the optical element of the photoelastic modulator (22) that is incorporated in the system.

L'invention concerne un système et un procédé pratiques de mesure de retard d'une lame d'onde. Le système utilise un modulateur photo-élastique (24) dans un montage optique et permet d'obtenir une sensibilité élevée. L'analyse est particulièrement appropriée aux tests de contrôle de qualité de lames d'onde (26). Le système est également adaptable à une légère variation du retard obtenu par une lame d'onde (26) (ou n'importe quel autre dispositif de retard) dans un montage optique donné. Pour ce faire, la position de la lame d'onde (26) peut être modifiée avec précision afin d'introduire des ajustements tout aussi précis des valeurs de retard que permet la lame d'onde (26). Le système est également affiné pour permettre de compenser les erreurs des mesures de retard précitées. Ces erreurs peuvent être imputables à une biréfringence statique présente dans l'élément optique du modulateur photo-élastique (24) incorporé dans le système.

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