C - Chemistry – Metallurgy – 30 – B
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
30
B
C30B 29/02 (2006.01) C23C 14/06 (2006.01) C23C 14/08 (2006.01) C23C 14/18 (2006.01) C30B 23/02 (2006.01)
Patent
CA 2441204
A metallic very thin film, a metallic very thin film multilayer body, and a method for manufacturing the metallic very thin film or the metallic very thin film laminate. The metallic very thin film or the metallic very thin film multilayer body is manufactured by forming, on a conductive base a dielectric thin film having a film thickness such that a tunnel effect between metals through the dielectric thin film is significantly caused or the valence electrons and holes constituting the conductive base and a metallic very thin film are influenced by the many-body effect, for example, a film thickness such that the dielectric body has a narrow band gap, and by forming the metallic very thin film having a one-atom or one-molecule thickness on the dielectric body by a deposition method. The metallic very thin film or the metallic very thin film multilayer body can be manufactured without producing any cluster thereby to prolong the lifetime of a catalyst and to enhance the degree of integration of an integrated circuit.
Cette invention concerne un film métallique de très faible épaisseur, un corps multicouche à film métallique de très faible épaisseur, un procédé de fabrication dudit film ou d'un laminé à film métallique de très faible épaisseur. Pour obtenir le film métallique de très faible épaisseur ou le corps multicouche à film de très mince épaisseur, on forme, sur une base conductrice, un mince film diélectrique d'une épaisseur telle qu'un effet tunnel se forme sensiblement entre les métaux au travers du film mince diélectrique, ou que les électrons de valence et les trous qui forment la base conductrice et un film métallique de très faible épaisseur soient influencés par l'effet à n corps (par exemple, épaisseur de film telle que le corps diélectrique présente une largeur de bande interdite étroite) ; ou bien on forme le film métallique de très faible épaisseur d'une épaisseur d'un atome ou d'une molécule sur le corps diélectrique par dépôt. Il est possible de fabrique le film métallique de très faible épaisseur ou le corps multicouche à film métallique de très faible épaisseur sans formation d'amas, ce qui prolonge la durée de vie du catalyseur et accentue le degré d'intégration d'un circuit intégré.
Marks & Clerk
Murata Yoshitada
Nippon Sheet Glass Company Limited
LandOfFree
Metallic very thin film, metallic very thin film multilayer... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Metallic very thin film, metallic very thin film multilayer..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Metallic very thin film, metallic very thin film multilayer... will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1514389