C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/52 (2006.01) C23C 16/20 (2006.01) C23C 16/455 (2006.01)
Patent
CA 2538897
A process for depositing a substantially pure, conformal metal layer on one or more substrates through the decomposition of a metal-containing precursor. During this deposition process, the substrate(s) is maintained at a temperature greater than the decomposition temperature of the precursor while the surrounding atmosphere is maintained at a temperature lower than the decomposition temperature of the precursor. The precursor is dispersed within a transport medium, e.g., a vapor phase. The concentration of the metal- containing precursor(s) in the vapor phase, which also contains liquid therein, can be at a level to provide conditions at or near saturation for the metal precursor(s). In ensuring the aforementioned temperature control between the transport media and substrate, and in maintaining saturation conditions for the transport media, the quality of the deposited metal thin film is markedly improved and the production of by-product metal dust is greatly reduced or substantially eliminated.
L'invention concerne un procédé de dépôt d'une couche métallique conforme, sensiblement pure, sur un ou plusieurs substrats, par décomposition d'un précurseur métallique. Au cours du procédé de dépôt, le(s) substrat(s) est (sont) maintenu(s) à une température supérieure à la température de décomposition du précurseur, tandis que l'atmosphère ambiante est maintenue à une température inférieure à la température de décomposition du précurseur. Le précurseur est dispersé dans un milieu de transport, par exemple une phase vapeur. La concentration de précurseur(s) métallique(s) dans la phase vapeur, qui contient également un liquide, peut s'effectuer à un niveau qui assure les états de saturation ou de quasi-saturation pour le(s) précurseur(s) métallique(s). Grâce à ladite régulation de température entre les milieux de transport et le substrat, et au maintien des états de saturation pour les milieux de transport, la qualité de la couche métallique mince déposée est notablement améliorée, et la production de poussière métallique résiduaire est considérablement réduite voire sensiblement éliminée.
Deavenport Dennis Leon
Newberg Samuel S.
Thornton John Lawrence Jr.
Tran Nam Hung
Akzo Nobel N.v.
Norton Rose Or S.e.n.c.r.l. S.r.l./llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1361205