Method and apparatus for fabrication of micro-structures...

G - Physics – 03 – F

Patent

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G03F 7/20 (2006.01) B23K 15/00 (2006.01) B23K 17/00 (2006.01) B23K 26/08 (2006.01) G01P 15/08 (2006.01) G01P 15/09 (2006.01) G01P 15/18 (2006.01) G05B 19/18 (2006.01) G12B 1/00 (2006.01) H01J 37/20 (2006.01) H01J 37/317 (2006.01) H01L 21/00 (2006.01) H01L 21/48 (2006.01) H01L 21/68 (2006.01) H01L 41/09 (2006.01)

Patent

CA 2059345

Apparatus for non-planar treatment of a workpiece utilizing exposure beam lithography includes a vacuum chamber an exposure beam generator such as an electron beam generator disposed in the chamber for directing a beam towards a work location, a chuck disposed in the chamber for holding and positioning the workpiece at the work location, a rotary motorized stage disposed in the chamber and responsive to first control signals for selectively rotating the chuck, and thus the workpiece, to thereby expose different areas of the workpiece to the beam, and a linear motorized stage disposed in the chamber on which the rotary stage is mounted, said linear motor being responsive to second control signals for selectively moving the rotary stage and thus the chuck and workpiece in a linear direction which is generally parallel with the axis of rotation of the rotary stage. The workpiece is thus exposed over additional areas by operation of the linear stage. A controller supplies first and second control signals to the rotary stage and linear stage respectively to selectively effect the operation thereof.

Cette invention concerne un appareil de traitement non-planaire par lithographie à faisceau d'électrons qui comprend une enceinte sous vide, un générateur d'électrons monté dans l'enceinte sous vide de façon à diriger le faisceau vers la pièce, un mandrin également monté dans l'enceinte sous vide pour maintenir la pièce et la positionner à l'endroit approprié, un moteur rotatif monté dans ladite enceinte pour faire tourner la pièce au moyen du mandrin en fonction d'une première série de signaux de commande et en exposer différentes régions au faisceau d'électrons, un moteur linéaire portant le moteur rotatif et réagissant à une seconde série de signaux de commande pour déplacer ce dernier et la pièce portée par le mandrin linéairement, soit le long d'un plan généralement parallèle à l'axe de rotation du mandrin. Ainsi, une plus grande surface de la pièce peut être exposée au bombardement d'électrons. Un bloc de commande envoie au moteur rotatif et au moteur linéaire respectivement une première et une seconde séries de signaux déterminant leur fonctionnement.

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