C - Chemistry – Metallurgy – 01 – B
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
01
B
C01B 31/06 (2006.01) C09K 3/14 (2006.01) C23C 16/01 (2006.01) C23C 16/26 (2006.01) C23C 16/27 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01) C23C 16/54 (2006.01) C30B 25/10 (2006.01)
Patent
CA 2054050
Synthetic diamond film produced by chemical vapor deposition can be crushed to obtain diamond grit which has useful abrasive properties. The flexibility of CVD deposition processes in determining diamond film properties means that CVD diamond grit properties can be tailored to particular abrasive applications. In a disclosed embodiment, the grit particles are coated with a magnetic material. The coated grit particles can then be aligned with a magnetic field, and the coated grit particles are bonded to a matrix while aligned. In a further disclosed form of the invention, a chemical vapor deposition system, such as an arc jet plasma deposition system, is provided in a chamber. A carrier strip and the deposition system are moved with respect to each other, and the deposition system is caused to deposit diamond film on the carrier strip. The strip can be of a flexible material, such as a copper or woven graphite material, and can be wound onto supply and take-up spools, respectively, before and after diamond deposition. Diamond film can be removed from the strip, such as by flexing the strip, and then crushed to obtain grit. The deposition system can also be utilized to produce other superabrasive grit, such as cBN, C3N4 or B22O.
L'objet de la présente invention est un revêtement diamanté synthétique obtenu par dépôt chimique en phase vapeur dont le broyage permet l'obtention de grains abrasifs présentant des propriétés prédéterminées. La flexibilité du procédé D.C.P.V. assure l'obtention de propriétés abrasives prédéterminées en fonction de l'application envisagée. Dans une version de l'invention, les grains abrasifs sont revêtus d'un matériau magnétique. Les grains abrasifs ainsi revêtus peuvent être alignés par l'intermédiaire d'un champ magnétique avant leur liaisonnement à la matrice. Dans une autre version de l'invention, un système de dépôt chimique en phase vapeur tel un système activé sous plasma est utilisé. Un subjectile en bande est mis en défilement dans le système de dépôt chimique de diamant en phase vapeur. La bande peut être composée d'un matériau flexible, tel du cuivre ou un tissu de fibres de carbone, et se présenter sous forme de bobine d'alimentation et de bobine d'enroulement avant et après le dépôt de revêtement diamanté. Le revêtement diamanté peut être détaché de la bande par pliage avant l'opération de broyage. Le système de dépôt chimique en phase vapeur peut aussi être utilisé pour la production de grains superabrasifs tels les grains de dénomination cBn, C3N4 ou B22O.
Bigelow Louis K.
Csillag Frank J.
Hoggins James T.
Gowling Lafleur Henderson Llp
Norton Company
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1950373