G - Physics – 01 – N
Patent
G - Physics
01
N
G01N 25/20 (2006.01) G01B 15/04 (2006.01) G01N 25/00 (2006.01) G01N 25/48 (2006.01)
Patent
CA 2225315
A platinum/rhodium resistance thermal probe is used as an active device which acts both as a highly localized heat source and as a detector to perform localized differential calorimetry, by thermally inducing and detecting events such as glass transitions, meltings, recystallizations and thermal decomposition within volumes of material estimated at a few µm3. Furthermore, the probe is used to image variations in thermal conductivity and diffusivity, to perform depth profiling and sub-surface imaging. The maximum depth of the sample that is imaged is controlled by generating and detecting evanescent temperature waves in the sample.
Dans cette invention, on utilise une sonde thermique à résistance au platine/rhodium comme dispositif actif qui sert à la fois de source de chaleur fortement localisée et de détecteur, pour effectuer des mesures de calorimétrie différentielle localisée, en induisant thermiquement et en détectant des évènements tels que des transitions vitreuses, des fusions, des recristallisations et des décompositions thermiques dans des matériaux ayant des volumes estimés à quelques mu m<3>. Cette sonde est en outre utilisée pour représenter en images des variations de la conductivité thermique et de la diffusivité thermique, pour procéder à des déterminations de profils de profondeur et à des opérations d'imagerie subsuperficielle. La profondeur maximum de l'échantillon faisant l'objet de l'opération d'imagerie est régulée par production et détection d'ondes de températures évanescentes dans ledit échantillon.
Hammiche Azzedine
Pollock Hubert Murray Montagu
Reading Michael
Song Mo
Ridout & Maybee Llp
Ta Instruments Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2085712