Method and apparatus for providing treatment chemicals to...

C - Chemistry – Metallurgy – 02 – F

Patent

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Details

C02F 1/68 (2006.01) B01J 4/04 (2006.01)

Patent

CA 2635647

Forward osmosis is utilized to dispense chemicals into a process water system such as a cooling tower, chilled water system, boiler, or pulp and paper plant. The dispenser (10) includes a flexible pouch (14) filled with treatment chemicals (44) and an osmotic membrane (34). The dispenser is placed in the process water system. Water passing through the membrane (34) increases internal pressure, which forces chemical (44) into the process water system. The exposed surface area of the osmotic membrane (34) can be aftered to control dispensing rate. The apparatus can either utilize the chemical treatment agent as the osmotic agent, or can be divided into two separate areas utilizing a separate osmotic agent such as sodium chloride. The dispenser can be positioned in the process water system at a location where water flows onto the osmotic membrane only when the process water system is in operation.

L'invention concerne l'emploi de l'osmose directe pour distribuer des produits chimiques dans un système d'eau de process tel qu'une tour de refroidissement, un système à eau glacée, une chaudière ou une installation de production de pâte et de papier. Le distributeur (10) comprend une poche (14) souple remplie de produits chimiques (44) de traitement et une membrane (34) osmotique. Le distributeur est placé dans le système d'eau de process. L'eau traversant la membrane (34) augmente la pression interne, ce qui injecte le produit chimique (44) dans le système d'eau de process. L'aire de la surface exposée de la membrane (34) osmotique peut être modifiée pour réguler le débit de distribution. L'appareil peut soit employer l'agent chimique de traitement comme agent osmotique, soit être divisé en deux zones séparées employant un agent osmotique séparé comme du chlorure de sodium. Le distributeur peut être positionné dans le système d'eau de process à un emplacement où l'eau ne s'écoule sur la membrane osmotique que lorsque le système d'eau de process est en fonctionnement.

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