Method and apparatus using organic vapor phase deposition...

Details Method and apparatus using organic vapor phase deposition... Method and apparatus using organic vapor phase deposition...

C - Chemistry, Metallurgy

30

B

C30B 29/54 (2006.01) C23C 16/30 (2006.01) C30B 25/00 (2006.01) C30B 25/02 (2006.01)

Patent

CA 2220354

In a method using organic vapor phase deposition (OVPD), for the growth of thin films of organic material, a volatile precursor of each component of the organic material is carried as a vapor to a hot-wall reaction chamber by independently controlled streams of carrier gas.

Dans un procédé de dépôt chimique en phase vapeur organique pour la croissance de pellicules fines de sels organiques optiquement non linéaires, un précurseur volatil de chaque composant du sel est acheminé sous forme de vapeur jusqu'à une chambre de réaction à paroi chaude par des flux de gaz de transport régulés de façon indépendante. Les composants réagissent pour former une pellicule fine polycristalline sur des substrats de verre et d'or. Les réactifs et produits de réaction en excès sont éliminés du système par le gaz de transport. Le procédé permet par exemple la croissance de pellicules fines polycristallines, optiquement non linéaires, de 4'-diméthylamino-N-méthyl-4-stilbazolium tosylate (DAST) d'une pureté supérieure à 95 %.

Affiliated with

Also associated with

Rating

Method and apparatus using organic vapor phase deposition... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.

If you have personal experience with Method and apparatus using organic vapor phase deposition..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Method and apparatus using organic vapor phase deposition... will most certainly appreciate the feedback.

Rate now

Comments { 0 }

Profile ID: LFCA-PAI-O-1787104