C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 8/36 (2006.01) B01J 19/08 (2006.01) C07B 43/04 (2006.01)
Patent
CA 2655077
Provided is a method for controllably activating a surface for stable amine-reactive chemistries. A surface containing nitride is exposed to a plasma having a reactive species containing hydrogen for a period of time sufficient to activate the substrate for amine-reactive chemistries. Amine-reactive chemical processes can then be applied to the activated surface to reliably and controllably bond molecules directly to said surface. The method is designed to create stable primary amines on the nitride substrate, so that any subsequent amine-reactive chemistry may proceed in a controlled manner that is directly proportional to the density of surface amines so created.
La présente invention concerne un procédé permettant d'activer de manière maîtrisée une surface pour des chimies amino-réactives stables. Une surface contenant du nitrure est exposée à un plasma possédant de l'hydrogène contenant des espèces chimiques réactives pendant une durée suffisante pour activer le substrat en vue de chimies amino-réactives. Des processus chimiques amino-réactifs peuvent ensuite être appliqués sur la surface activée de façon à lier des molécules de manière maîtrisée et fiable directement sur cette surface. Ce procédé est conçu pour créer des amines primaires stables sur le substrat au nitrure de sorte que n'importe quelle chimie amino-réactive subséquente puisse se dérouler de manière maîtrisée qui soit directement proportionnelle à la densité des amines de surface ainsi créée..
Cole Christina L.
Whitman Lloyd J.
Mbm Intellectual Property Law Llp
The Government Of The United States Of America As Represented By The Se Cretary Of The Department Of The Navy
LandOfFree
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