Method for controlling precisely the presence of a small...

C - Chemistry – Metallurgy – 25 – C

Patent

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204/48

C25C 3/20 (2006.01)

Patent

CA 1251417

PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention concerne un procédé de régu- lation précise d'une faible teneur en alumine comprise entre 1 et 4,5%, dans une cuve pour la production d'alu- minium par électrolyse, selon le procédé Hall-Héroult. Selon l'invention, on détermine un paramètre de régulation P = -1/D.(dRi/dt), exprimé en microohms par seconde et par pour-cent en poids par heure, D étant la dérive de la teneur du bain d'électrolyse en alumine, exprimée en pour-cent en poids par heure, et Ri la résistance interne de la cuve, t le temps et on effectue les opérations suivantes de façon répétitive: a) on alimente la cuve à une cadence nominale CN telle que la demande d'alumine introduite dans le bain soit sensiblement égale à la quan- tité consommée par l'électrolyse, b) on déclenche pério- diquement une suralimentation en alumine à une cadence C+ , supérieure à la cadence nominale CN, de façon à enrichir le bain en alumine, et pendant une durée t+ prédé- terminée. Pendant cette période, dRi/dt est négative, c) on passe en sous-alimentation, c'est-à-dire à une cadence C- inférieure à CN. La pente dRi/dt s'annule puis devient positive. On mesure, de façon fréquente, le paramètre de régulation P, dont la valeur tend à augmenter, et d) on compare les valeurs successives de P à une valeur de consigne Po prédéterminée. Dès que P = Po on repasse en cadence d'alimentation nominale CN et on recommence un nouveau cycle en (a).

508520

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