C - Chemistry – Metallurgy – 02 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
02
F
C02F 5/10 (2006.01) C02F 5/12 (2006.01) C02F 5/14 (2006.01) C08F 216/14 (2006.01)
Patent
CA 2440435
Novel water-soluble or water-dispersible polymers useful for inhibiting the formation and deposition of scale forming moieties in aqueous systems comprising repeat units characterized by the Formula I: R1 | *--[-E-]c-**-[- CH2-C-]d-* *-[-F-]e-* | G | O | R2 | XZ Wherein E is the repeat unit remaining after polymerization of an ethylenically unsaturated compound; preferably, a carboxylic acid, sulfonic acid, phosphonic acid, or amide form thereof or mixtures thereof. R1 is H or lower (C1-C4) alkyl. G is -CH2- or -CHCH3-; R2 is -(-CH2-CH2-O)n- or -(-CH2-CHCH3-O)m- where n and m range from about 1 to 100, preferably n is greater than 10 and m ranges from about 1 to 20. X is an anionic radical selected from the group consisting of SO3, PO3, or COO; Z is H or hydrogens or any water soluble cationic moiety which counterbalances the valence of the anionic radical X, including but not limited to Na, K, Ca, or NH4. F, when present, is a repeat unit having the structure of Formula II: R4 | *-[-CH2-C-]-* | CH2 | O | R5 | XZ wherein X and Z are the same as in Formula I. R4 is H or lower (C1-C4) alkyl . R5 is hydroxy substituted alkyl or alkylene having from about 1 to 6 carbon atoms.
L'invention porte sur de nouveaux polymères hydrosolubles ou hydrodispersibles servant à inhiber la formation et le dépôt de fragments entartrants dans des systèmes aqueux, et comportant des unités répétitives caractérisées par la Formule I dans laquelle: E est une unité répétitive restant après la polymérisation d'un composé non saturé en éthylène, de préférence un acide carboxylique, un acide sulfonique, un acide phosphonique, ou leur forme amidée ou leurs mélanges; R1 est H ou (C1-C4) alkyle inférieur; G est -CH2- ou -CHCH3-; R2 est -(-CH2-CH2-O)n- ou -(-CH2-CHCH3-O)m- où n et m sont compris entre environ 1 et 100, n étant de préférence supérieur à 10 et m, compris entre environ 1 et 20; X est un radical anionique choisi parmi SO3, PO3, ou COO; Z est H ou hydrogène ou tout fragment cationique hydrosoluble qui contrebalance la valence du radical anionique X, dont non limitativement Na, K, Ca, ou NH4; F, si présent, est une unité répétitive présentant la structure de la Formule II dans laquelle: X et Z sont comme dans la Formule I; R4 est H ou (C1-C4) alkyle inférieur; et R5 est un alkyle ou un alkylène à substitution hydroxy à 1 à 6 atomes de carbone.
Buentello Kristin E.
Chen Fu
Kaechelin Julie A.
Kessler Stephen M.
Kolson Natalie A.
Craig Wilson And Company
Ge Betz Inc.
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1658961