G - Physics – 21 – F
Patent
G - Physics
21
F
G21F 9/00 (2006.01) C22B 60/02 (2006.01) G21F 9/12 (2006.01) G21F 9/28 (2006.01) G21F 9/30 (2006.01)
Patent
CA 2755288
The invention relates to a method for chemically decontaminating the surface of a metal component of the primary circuit of a pressurized-water reactor, said surface comprising an oxide layer. The method is divided into two process stages and is further implemented as follows: - in the first process stage, at least one treatment cycle is performed, comprising an oxidation step, a reduction step, and a subsequent first decontamination step, wherein the component is treated in the oxidation step with an aqueous solution comprising an oxidizing agent, which converts trivalent chrome present in the oxide layer into hexavalent chrome; the component is treated in the reduction step with an aqueous solution comprising a reducing agent for reducing excess oxidation agent from the oxidation step; the component is treated in the first decontamination step with an aqueous solution comprising exclusively or predominantly at least one decontamination acid that forms no antisoluble deposits with metal ions present in the solution, in particular bivalent metal ions; and the solution is fed through an ion exchanger for removing metal ions present in the solution, which metal ions originate from the oxide layer and/or the base metal of the component, - in the second process stage, at least one treatment cycle is performed, comprising a second decontamination step, wherein the component is treated with an aqueous solution comprising exclusively or predominantly oxalic acid as a decontamination acid.
L'invention concerne un procédé de décontamination chimique de la surface, comprenant une couche d'oxyde, d'un composant métallique du circuit primaire d'un réacteur à eau sous pression, ledit procédé étant divisé en deux étapes et organisé tel qu'indiqué ci-après. Dans la première étape, au moins un cycle de traitement comprenant une étape d'oxydation, une étape de réduction et une première étape de décontamination subséquente à celles-ci, est mis en uvre. Dans l'étape d'oxydation, le composant est traité au moyen d'une solution aqueuse qui contient un agent oxydant, lequel transforme le chrome trivalent contenu dans la couche d'oxyde en chrome hexavalent ; dans l'étape de réduction, le composant est traité au moyen d'une solution aqueuse qui contient un agent réducteur pour la réduction de l'agent oxydant en excès issu de l'étape d'oxydation ; dans la première étape de décontamination, le composant est traité au moyen d'une solution aqueuse qui contient exclusivement ou dans une proportion prépondérante au moins un acide de décontamination qui ne forme avec les ions métalliques contenus dans la solution, en particulier les ions métalliques bivalents, aucun précipité difficilement soluble ; la solution étant guidée sur un échangeur d'ions, pour l'élimination des ions métalliques qu'elle contient, issus de la couche d'oxyde et/ou du métal de base du composant. Dans la seconde étape, au moins un cycle de traitement est mis en uvre, ledit cycle comprenant une seconde étape de décontamination consistant à traiter le composant au moyen d'une solution aqueuse qui contient exclusivement ou dans une proportion prépondérante de l'acide oxalique en tant qu'acide de décontamination.
Gassen Rainer
Zeiler Bertram
Areva Np Gmbh
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1517889