Method for depositing a thin film and product thus obtained

C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C

Patent

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Details

C23C 16/513 (2006.01) C23C 16/40 (2006.01) C23C 16/452 (2006.01)

Patent

CA 2609847

L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un matériau comprenant un substrat dont au moins une partie de la surface d'au moins une de ses faces est à base de composés organiques, ledit procédé étant mis en oeuvre à pression atmosphérique et sans chauffage de la totalité dudit substrat, ledit procédé comprenant en outre les étapes suivantes : - on crée à proximité immediate dudit substrat une zone contenant des espèces actives d'un plasma non thermique, - on injecte dans ladite zone au moins un précurseur d'un élément chimique de manière à déposer sur au moins une face dudit substrat dont au moins une partie de la surface est à base de composés organiques une première couche mince susceptible de protéger ledit substrat contre des réactions d'oxydation, notamment radicalaire. L'invention à également pour objet le matériau susceptible d'être obtenu selon ce procédé.

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