Method for fabricating a pixelized phosphor

H - Electricity – 01 – J

Patent

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Details

H01J 9/227 (2006.01) G21K 4/00 (2006.01)

Patent

CA 2186258

A process for making a pixelized phosphor structure involves the steps of forming an integral, non-layered mold by creating a plurality of openings in a substrate, and depositing a phosphor into the openings of the mold, thereby filling each of the openings of the mold with phosphor, and thereby forming a pixelized phosphor structure comprising an array of discrete phosphor elements. A second process for making a pixelized phosphor structure involves the steps of forming a first integral, non-layered mold by creating a plurality of first openings in a substrate, forming a series of one or more generations of replicas of the master mold, each of the one or more generations of replicas having a plurality of second openings, depositing a phosphor into the second openings of one of the one or more generations of replicas, thereby filling each of the second openings of the one of the one or more generations of replicas with phosphor, and thereby forming a pixelized phosphor structure comprising an array of discrete phosphor elements. A third process for making a pixelized phosphor structure involves the steps of providing a sheet of a first phosphor, creating a plurality of discrete holes in the first phosphor, each of the discrete holes extending through the first phosphor and having two openings, and depositing a second phosphor onto the first phosphor to form a pixelized phosphor structure, at least a portion of the second phosphor being deposited into the plurality of discrete holes in the first phosphor.

Procédé de fabrication d'une structure de phosphore à pixels qui consiste à former un moule monobloc non stratifié par la création d'une pluralité d'ouvertures dans un substrat, et à déposer un phosphore dans toutes les ouvertures du moule de manière à former une structure de phosphore à pixels comprenant un groupe d'éléments de phosphore séparés. L'invention porte également sur un second procédé de fabrication d'une structure de phosphore à pixels qui consiste à former un premier moule monobloc non stratifié par la création d'une pluralité de premières ouvertures dans un substrat, à former une série de répliques de première génération ou plus du moule original, lesquelles présentent une pluralité de secondes ouvertures, à déposer un phosphore dans les secondes ouvertures d'une des répliques de première génération ou plus, et à remplir ainsi de phosphore chaque seconde ouverture des répliques de première génération ou plus, puis à former une structure de phosphore à pixels comprenant un groupe d'éléments de phosphore séparés. L'invention se rapporte à un troisième procédé de fabrication d'une structure de phosphore à pixels qui consiste à produire une feuille d'un premier phosphore, à créer une pluralité d'orifices séparés dans ce dernier, chaque orifice s'étendant à travers le premier phosphore et présentant deux ouvertures, et à déposer un second phosphore sur le premier de manière à former une structure de phosphore à pixels, au moins une partie du second phosphore étant déposée dans la pluralité d'orifices séparés formés dans le premier phosphore.

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