Method for fabrication of low-polarization implantable...

A - Human Necessities – 61 – N

Patent

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Details

A61N 1/05 (2006.01)

Patent

CA 2594480

A method for fabricating an implantable medical electrode includes roughening the electrode substrate, applying an adhesion layer, and depositing a valve metal oxide coating over the adhesion layer under conditions optimized to minimize electrode impedance and post-pulse polarization. The electrode substrate may be a variety of electrode metals or alloys including titanium, platinum, platinum-iridium, or niobium. The adhesion layer may be formed of titanium or zirconium. The valve metal oxide coating is a ruthenium oxide coating sputtered onto the adhesion layer under controlled target power, sputtering pressure, and sputter gas ratio setting optimized to minimize electrode impedance and post-pulse polarization.

La présente invention a trait à un procédé pour la fabrication d'une électrode médicale implantable comprenant la rugosification du substrat d'électrode, l'application d'une couche d'adhérence, et le dépôt d'un revêtement d'oxyde de métal valve sur la couche d'adhésion dans des conditions optimisées pour minimiser l'impédance d'électrode et la polarisation post-impulsion. Le substrat d'électrode peut être constitué par une variété de métaux ou d'alliages d'électrode comprenant le titane, le platine, le platine iridium, ou le niobium. La couche d'adhérence peut être constituée de titane ou de zirconium. Le revêtement d'oxyde de métal valve est un revêtement d'oxyde de ruthénium déposé par pulvérisation cathodique sur la couche d'adhésion sous puissance de cible contrôlée, la pression de pulvérisation cathodique, et le réglage de rapport de gaz de pulvérisation cathodique étant optimisés pour minimiser l'impédance d'électrode et la polarisation post-impulsion.

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