C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/52 (2006.01) C23C 16/511 (2006.01) H01J 37/32 (2006.01)
Patent
CA 2627407
The invention relates to a method for monitoring the composition of a plasma, this plasma being generated from determined precursors for depositing a film onto a polymer material. This method involves receiving light intensities emitted by the plasma and comprises: a step for selecting a first reference wavelength range that is selected within a plasma emission spectral region in which no significant signal of a parasitic chemical species can exist, i.e. which is not part of the determined precursors and which is thus normally not present in the plasma and whose presence in the plasma influences the nature of the deposited film; a step for selecting a second wavelength range which is selected within a plasma emission spectral region in which a significant signal of a parasitic chemical species is likely to exist; a step for simultaneously acquiring light intensities emitted by the plasma in each of the two selected wavelength ranges emitted by the plasma in each of the two selected wavelength ranges, and; a step for calculating, on the basis of these light intensities, at least one monitoring coefficient.
Méthode de surveillance de la composition d'un plasma, ce plasma étant généré à partir de précurseurs déterminés pour le dépôt d'un film sur un matériau polymère, cette méthode comprenant la réception d'intensités lumineuses émises par le plasma, cette méthode comprenant: une étape de choix d'une première gamme de longueurs d'ondes, dite de référence, qui est choisie dans un domaine du spectre d' émission du plasma dans lequel il ne peut exister aucun signal significatif d'une espèce chimique dite parasite, c'est-à-dire qui ne fait pas partie desdits précurseurs déterminés et qui n'est donc normalement pas présente dans le plasma et dont la présence dans le plasma influe sur la nature du film déposé; -une étape de choix d'une seconde gamme de longueurs d' ondes qui est choisie dans un domaine du spectre d' émission du plasma dans lequel il est susceptible d'exister un signal significatif d'une espèce chimique parasite; -une étape d'acquisition simultanée des intensités lumineuses émises par le plasma dans chacune des deux gammes de longueurs d'ondes choisies; -une étape de calcul, à partir desdites intensités lumineuses d'au moins un coefficient de surveillance.
Feuilloley Guy
Rius Jean-Michel
Goudreau Gage Dubuc
Sidel Participations
LandOfFree
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