G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/12 (2006.01) B41F 15/36 (2006.01)
Patent
CA 2558768
Method for producing a base material (25) for screen printing, which comprises a protective film (10), a screen (5) and an intermediate resist layer (13) comprising photosensitive material, the method comprising the steps of applying a first resist layer (15) to one side of the protectíve film (10), drying the first resist layer (15), applying an additional resist layer (17) to the first resist layer (15), and then applying a screen (5) to the additional resist layer (17) under pressure, with that side of the additional resist layer (17) to which the screen (5) is applied being wet. The invention also describes a base material (25) for screen printing, which comprises a protective film (10), an electroformed screen (5) and an intermediate resist layer (13) comprising photosensitive material.
L'invention concerne un procédé de production d'un matériau de base (25) destiné à la sérigraphie, qui comprend un film de protection (10), un écran (5) et une couche de résine intermédiaire (13) contenant une matière photosensible. Ce procédé comprend les étapes consistant à appliquer une première couche de résine (15) sur un côté du film protecteur (10), à sécher la première couche de résine (15), à appliquer une couche de résine supplémentaire (17) sur la première couche de résine (15), puis à appliquer un écran (5) sur la couche de résine supplémentaire (17) sous pression, avec le côté de la couche de résine supplémentaire (17) humide auquel l'écran (5) est appliqué. L'invention concerne également un matériau de base (25) destinée à la sérigraphie, qui comprend un film de protection (10), un écran électroformé (5) et une couche de résine intermédiaire (13) contenant une matière photosensible.
Gowling Lafleur Henderson Llp
Stork Prints B.v.
LandOfFree
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