G - Physics – 02 – B
Patent
G - Physics
02
B
G02B 6/122 (2006.01)
Patent
CA 2653689
The invention relates to a method for producing a photonic crystal which consists of a material with a high refractive index, comprising the following steps: (a) Provision of a polymer structure with cross-linked air voids with surfaces displaying empty interstitial lattice sites; (b) Application of a homogeneous, isotropic thin coating material on the surfaces of the polymer structure; (c) Introduction of a highly refractive material; (d) Opening of an access to the polymer or coating material applied according to step (b); (e) Removal of the layer applied in step (b); (f) Removal of the polymer structure.
L'invention concerne un procédé pour la fabrication d'un cristal photonique, qui se compose d'un matériau présentant un indice élevé de réfraction, comprenant les étapes de procédé suivantes : a) Mise à disposition d'une structure polymère avec des pores d'air réticulés, dont la surface présente des positions interstitielles vides, b) Application d'un matériau de revêtement homogène, isotrope, fin à la surface de la structure polymère, c) Apport d'un matériau à réfraction élevée, d) Ouverture d'un accès au polymère ou au matériau de revêtement appliqué à l'étape b), e) Enlèvement de la couche appliquée à l'étape b), f) Enlèvement de la structure polymère.
Hermatschweiler Martin
Ozin Geoffrey Alan
von Freymann Georg
Wegener Martin
Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh
Robic
Universitaet Karlsruhe
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2007370