C - Chemistry – Metallurgy – 07 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
F
C07F 15/00 (2006.01) B01J 31/00 (2006.01) B01J 31/22 (2006.01) C08F 4/80 (2006.01) C08F 32/04 (2006.01)
Patent
CA 2301713
The invention relates to ruthenium complexes of the general formulas (I) RuX2(=CH-CH2R)L1L2 or (IV) RuXY(=CH-CH2R)L1L2, where X, Y are anionic ligands, R is hydrogen or a possibly substituted C1-C20 alkyl rest or C6-C20 aryl rest, and L1 and L2 independently of each other are neutral electron donor ligands. Said ruthenium complexes are produced by (a) reacting RuX3 with L1 and L2 in an inert solvent in the presence of a reducing agent and hydrogen, and (b) by reacting the resulting product with compounds of the general formula (II) R- CCH, where R has the meaning given above, possibly in the presence of water and possibly after isolation of the intermediate stage with HY, (HL1)Y or (HL2)Y.
L'invention concerne des complexes de ruthénium de la formule générale (I) RuX¿2?(=CH-CH¿2?R)L?1¿L?2¿ ou de la formule générale (IV) RuXY(=CH-CH¿2?R)L?1¿L?2¿ où X, Y sont des ligands anioniques, R représente de l'hydrogène ou un groupe alkyle C¿1-20? ou un groupe aryle C¿6-20? éventuellement substitué, et L?1¿ et L?2¿ sont, indépendamment l'un de l'autre, des ligands électrodonneurs. On produit ces derniers (a) en faisant réagir RuX¿3? avec L?1¿ et L?2¿ dans un solvant inerte en présence d'un agent de réduction et d'hydrogène et (b) en faisant réagir le produit ainsi obtenu avec les composés de la formule générale (II) R-C?CH où R a la signification susmentionnée, éventuellement en présence d'eau, et éventuellement avec HY, (HL?1¿)Y ou (HL?2¿)Y après isolement de l'étape intermédiaire.
Schulz Michael
Schwab Peter
Stuer Wolfram
Werner Helmut
Wolf Justin
Basf Aktiengesellschaft
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1575071