C - Chemistry – Metallurgy – 07 – H
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
H
C07H 19/067 (2006.01) C07H 19/10 (2006.01) C07H 19/167 (2006.01) C07H 19/20 (2006.01) C07H 21/02 (2006.01) C07H 21/04 (2006.01)
Patent
CA 2642693
The object is to provide, in a ribonucleic acid derivative having a substituent represented by the formula (I) which protects a 2'-hydroxyl group in the ribose moiety and silicon protecting groups which protect a 3'-hydroxyl group and a 5'-hydroxyl group in the ribose moiety, a method for removal of the silicon protecting groups from the derivative at low cost, on a large scale, and with good efficiency. (I) wherein WG1 represents an electron-withdrawing group. The method comprises reacting a ribonucleic acid derivative represented by the general formula (1) with a salt between a tertiary amine represented by the general formula (2) and hydrofluoric acid or a mixture of the tertiary amine and hydrofluoric acid to remove silicon protecting groups which protect a 3'-hydroxyl group and a 5'-hydroxyl group in the ribose moiety of the ribonucleic acid derivative, thereby producing a ribonucleic acid derivative represented by the general formula (3).
La présente invention concerne un dérivé acide ribonucléique ayant un substituant représenté par la formule (I) qui protège un groupe hydroxyle en position 2' dans le fragment ribose et des groupes protecteurs à base de silicium qui protègent un groupe hydroxyle en position 3' et un groupe hydroxyle en position 5' dans le fragment ribose, un procédé de clivage des groupes protecteurs à base de silicium du dérivé à bas coût, à une grande échelle et avec un bon rendement. (I) où WG1 représente un groupe attracteur d'électrons. Le procédé comprend la réaction d'un dérivé acide ribonucléique représenté par la formule générale (1) avec un sel formé entre une amine tertiaire représentée par la formule générale (2) et l'acide fluorhydrique ou un mélange de l'amine tertiaire et de l'acide fluorhydrique de façon à cliver les groupes protecteurs à base de silicium qui protègent un groupe hydroxyle en position 3' et un groupe hydroxyle en position 5' dans le fragment ribose du dérivé acide ribonucléique, produisant de ce fait un dérivé acide ribonucléique représenté par la formule générale (3). [Formule chimique] (2) (1) (3)
Kitagawa Hidetoshi
Masuda Hirofumi
Fetherstonhaugh & Co.
Nippon Shinyaku Co. Ltd.
LandOfFree
Method for removal of nucleic acid-protecting group does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Method for removal of nucleic acid-protecting group, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Method for removal of nucleic acid-protecting group will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1573191