G - Physics – 01 – N
Patent
G - Physics
01
N
G01N 27/447 (2006.01)
Patent
CA 2498040
A method for migrating a substance to be analyzed, which comprises the following steps: a) a step of adding the substance to a migration medium carried on a base material having a surface to be contacted with the migration medium which has been covered with a polymer film, and b) a step of applying a migration pressure to the resultant migration medium; and a device for practicing the method. The method allows the control of various properties of the surface of a base material to be contacted with a migration medium. For example, by utilizing a plasma polymerization, a film being uniform in its thickness and quality can be formed on the surface of a base material having an arbitrary shape and a variety of properties can be provided on the surface through the selection of a monomeric material. The adsorption of a protein in a microchip can also be effectively suppressed.
Cette invention concerne un procédé de migration d'une substance à analyser comprenant les étapes suivantes consistant : a) à ajouter la substance à un milieu de migration situé sur un matériau de base comportant une surface destinée à être mise en contact avec le milieu de migration qui a été recouvert d'un film polymère ; puis b) à exercer une pression de migration sur le milieu de migration obtenu. Cette invention concerne également un dispositif de mise en oeuvre de ce procédé. Ce procédé permet de surveiller diverses propriétés de la surface d'un matériau de base devant être mis en contact avec un milieu de migration. Par exemple, l'utilisation d'une polymérisation par plasma permet de former un film d'épaisseur et de qualité uniformes sur la surface d'un matériau de base dont la forme est arbitraire et la sélection d'un matériau monomère permet de conférer une multitude de propriétés à la surface. L'adsorption d'une protéine dans une puce peut par ailleurs être efficacement supprimée.
Akimoto Takuo
Hiratsuka Atsunori
Karube Isao
Koide Satoshi
Tsai Shuo-Wen
Bereskin & Parr Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
Katayanagi Institute
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1897142