C - Chemistry – Metallurgy – 25 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
25
D
C25D 21/12 (2006.01) C25D 21/00 (2006.01) C25D 21/14 (2006.01)
Patent
CA 2473054
[Problem] To avoid a change in plating performance, even where operation of the plating equipment is interrupted, the properties of the plating solution need to be preserved.[Means to resolve the problem] For plating equipment having an insoluble anode, add a reservoir (7) for storing a replacement solution to the tank (4) having a metal ion supply source (copper ball (5)) and, upon termination of the plating operation, the entire plating solution is discharged from the tank (4) containing the metal ion supply source, while the solution for replacement is transferred from the reservoir (7) to the empty tank having a metal ion supply source, and immediately prior to the resumption of the plating operation transfer the solution for replacement back to the reservoir (7) and return the plating solution to the tank (4) containing the metal ion supply source.
Selon l'invention, pour éviter une modification de rendement d'une galvanoplastie, y compris lors d'une interruption du fonctionnement de la machine de galvanoplastie, il est nécessaire de conserver les propriétés de la solution de galvanoplastie. Dans le cas d'une machine de galvanoplastie comprenant une anode insoluble, un procédé consiste à utiliser un réservoir d'appoint (7) servant à stocker une solution de remplacement destinée au réservoir (4), lequel comprend une source d'ions métalliques (balle de cuivre (5)), puis, après l'opération de galvanoplastie, à évacuer toute la solution de galvanoplastie du réservoir (4) comprenant la source d'ions métalliques, la solution de remplacement étant alors transférée du réservoir d'appoint (7) au réservoir vide pourvu de la source d'ions métalliques. Immédiatement avant la reprise de l'opération de galvanoplastie, ledit procédé consiste à transférer la solution de remplacement en retour dans le réservoir d'appoint (7) et à réacheminer la solution de galvanoplastie vers le réservoir (4) contenant la source d'ions métalliques.
Muranushi Yoshihisa
Saitoh Tadashi
Atotech Deutschland Gmbh
Teitelbaum & Maclean
LandOfFree
Method for storage of a metal ion supply source in a plating... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Method for storage of a metal ion supply source in a plating..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Method for storage of a metal ion supply source in a plating... will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1894895