G - Physics – 21 – K
Patent
G - Physics
21
K
G21K 4/00 (2006.01)
Patent
CA 2200435
The performance of phosphor screens can be improved by adding an antistatic agent into the protective topcoat of the radiographic screen when the antistatic agent preferably comprises a fluorocarbon or silicone antistatic agent. These antistatic agents are particularly useful where the screen is made by coating phosphor dispersion/mixture onto a substrate while the dispersion/mixture contains less than 5 % by weight of polymerizable components with a molecular weight less than 300, preferably with less than 5 % by weight of polymerizable components having molecular weight less than 500, and a topcoat contains the antistatic agent. Formation of the antistatic topcoat is preferably formed by inclusion of the antistatic agent into the polymerizable composition and allowing the antistatic agent to migrate to the surface of the composition during polymerization to form a layer consisting essentially of the antistatic agent. The polymerizable composition should be photopolymerizable, and other components within the coating to be photohardened which have molecular weights below 300 or 500 should likewise be kept to less than 5 % by weight of the composition.
On peut améliorer les performances d'écrans au phosphore par apport d'un agent antistatique dans la couche supérieure de protection de l'écran radiographique, l'agent antistatique étant, de préférence, à base de fluorocarbone ou de silicone. Ces agents antistatiques sont particulièrement efficaces quand l'écran est réalisé par dépôt d'un mélange ou d'une dispersion de phosphore sur un substrat, tandis que le mélange ou la dispersion contiennent une quantité inférieure à 5 % en poids de constituants polymérisables, dont le poids moléculaire est inférieur à 300, de préférence, une quantité inférieure à 5 % en poids de constituants polymérisables, dont le poids moléculaire est inférieur à 500, la couche supérieure de l'écran contenant l'agent antistatique. On prépare cette couche supérieure, de préférence, par inclusion de l'agent antistatique dans la composition polymérisable et on laisse ensuite l'agent antistatique se déplacer vers la surface de la composition pendant la polymérisation, de manière à obtenir une couche constituée essentiellement par ledit agent. La composition polymérisable devrait être photopolymérisable et la quantité des autres constituants à l'intérieur du revêtement à photodurcir, dont les poids moléculaires sont inférieurs à 300 ou à 500, devrait être, de même, maintenue inférieure à 5 % en poids de la composition.
Dahlquist John C.
Kulkarni Subodh K.
Eastman Kodak Company
Minnesota Mining And Manufacturing Company
Smart & Biggar
LandOfFree
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