C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/40 (2006.01) C23C 16/455 (2006.01) H01L 21/314 (2006.01)
Patent
CA 2690978
The present invention relates to a method for enhancing uniformity of metal oxide coatings formed by Atomic Layer Deposition (ALD) or ALD-type processes. Layers are formed using alternating pulses of metal halide and oxygen-contain-ing precursors, preferably water, and purging when necessary. An introduction of modificator pulses following the pulses of the oxygen-containing precursor affects positively on layer uniformity, which commonly exhibits gradients, particularly in applications with closely arranged substrates. In particular, improvement in layer thickness uniformity is obtained. According to the invention, alcohols having one to three carbon atoms can be used as the modificator.
La présente invention concerne un procédé pour améliorer l'uniformité de revêtements d'oxydes métalliques formés par dépôt par couches atomiques (ALD) ou des procédés de type ALD. Les couches sont formées en utilisant des impulsions alternatives d'halogénures métalliques et de précurseurs contenant de l'oxygène, de préférence de l'eau, et une purge lorsque cela est nécessaire. Une introduction d'impulsions modifiées à la suite des impulsions du précurseur contenant de l'oxygène a un effet positif sur l'uniformité des couches, lesquelles présentent communément des gradients, en particulier dans des applications avec des substrats parfaitement disposés. En particulier, une amélioration de l'uniformité de l'épaisseur des couches est obtenue. Selon l'invention, des alcools ayant de un à trois atomes de carbone peuvent être utilisés comme modificateur.
Haerkoenen Kari
Maula Jarmo
Beneq Oy
Cassan Maclean
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1875116