G - Physics – 01 – N
Patent
G - Physics
01
N
G01N 23/205 (2006.01)
Patent
CA 2494511
A method of analyzing patterns. The method comprises: receiving a first diffraction pattern; receiving a second diffraction pattern; receiving a third diffraction pattern; determining a similarity between the first and second diffraction patterns; determining a similarity between the first and third diffraction pattern; determining a similarity between the second and third diffraction pattern; and performing hierarchical cluster analysis on the first and second diffraction pattern based on the determined similarity. Method of matching X-ray diffraction patterns using the fundamental parameter (FP) method. Patterns may be matched by identifying peaks within the patterns and matching the patterns based on the identified peaks or by matching the intensity envelopes of the patterns. The similarities between the patterns are expressed by scores which may be used to perform hierarchical cluster analysis (HCA) on the patterns to yield a dendrogram.
La présente invention concerne un procédé pour analyser des diagrammes. Ce procédé consiste à recevoir un premier diagramme de diffraction, à recevoir un deuxième diagramme de diffraction, à recevoir un troisième diagramme de diffraction, à déterminer une similitude entre le premier et le deuxième diagramme de diffraction, à déterminer une similitude entre le premier et le troisième diagramme de diffraction, à déterminer une similitude entre le deuxième et le troisième diagramme de diffraction, puis à effectuer une classification hiérarchique des deuxième et troisième diagrammes de diffraction sur la base de la similitude déterminée. La présente invention concerne également un procédé pour établir des concordances de diagrammes de diffraction des rayons X au moyen de la méthode des paramètres fondamentaux. Des diagrammes peuvent être mis en concordance par identification de crêtes dans les diagrammes et par mise en concordance des diagrammes sur la base des crêtes identifiées ou par mise en concordance des enveloppes d'intensité des diagrammes. Les similitudes entre les diagrammes sont exprimées par des indices qui peuvent être utilisés afin d'effectuer une classification hiérarchique des diagrammes, en vue de produire un dendogramme.
Bates Simon
Bugay David E.
Hallenbeck Donald R.
Ivanisevic Igor
Stahly Barbara C.
Ssci Inc.
Stikeman Elliott Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1719170