C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/08 (2006.01) C03C 17/36 (2006.01) C04B 35/45 (2006.01) C23C 14/06 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01)
Patent
CA 2593028
A ceramic target is used in sputter-depositing a contact layer adjacent an infrared (IR) reflecting layer in certain example embodiments. For example, a ZnOx ceramic target may be used in sputter-depositing a zinc oxide inclusive layer over and/or under a silver based IR reflecting layer in certain embodiments. In certain example embodiments, the ceramic target may be doped with a non-metal such as (F) and/or (B).
Selon l'invention, une cible céramique est utilisée dans le dépôt par pulvérisation cathodique d'une couche de contact adjacente à une couche réfléchissant les rayons infrarouges (IR) dans certains modes de réalisation à titre d'exemple. Ainsi, on peut utiliser une cible céramique ZnOx dans le dépôt par pulvérisation cathodique d'une couche contenant de l'oxyde de zinc sur et/ou sous une couche réfléchissant les rayons IR à base d'argent dans certains modes de réalisation. Dans certains modes de réalisation à titre d'exemple, la cible céramique peut être dopée par un élément non métallique tel (F) et/ou (B).
Lu Yiwei
Seder Thomas A.
Guardian Industries Corp.
Macpherson Leslie & Tyerman Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1724722