Method of manufacturing optical waveguide device using...

G - Physics – 02 – B

Patent

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G02B 6/136 (2006.01) G02B 6/12 (2006.01)

Patent

CA 2249094

A method of manufacturing an optical waveguide device using an inductively coupled plasma device is provided. In this method, a lower cladding layer and a core layer are sequentially formed on a substrate. A mask pattern isformed on the core layer. The substrate is loaded on a cathode electrode of an inductively coupled plasma system. A plasma from a reaction gas is generated by applying first and second RF power respectively to the cathode electrode and an inductively coupled plasma coil, to pattern an exposed core layer into an optical waveguide. Then, an upper cladding layer covering the optical waveguide is formed.

La présente invention a pour objet une méthode pour la fabrication d'un guide d'ondes optiques utilisant un dispositif au plasma accouplé par induction. Dans la méthode visée par les présentes, une couche de métallisation inférieure et une couche centrale sont formées en séquence sur un substrat. Un dessin de masque est formé sur la couche centrale. Le substrat est monté sur la cathode d'un système au plasma à accouplement par induction. Un plasma résultant d'un gaz de réaction est produit par application d'une première et d'une deuxième puissances radioélectriques respectivement à l'électrode cathodique et à une bobine plasma à accouplement par induction pour former un dessin sur le noyau central exposé dans un guide d'ondes optiques. Par la suite, une couche de métallisation supérieure recouvrant le guide d'ondes optiques est formée.

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