G - Physics – 02 – B
Patent
G - Physics
02
B
G02B 5/18 (2006.01) G02B 6/10 (2006.01) G02B 6/124 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01) G02B 6/12 (2006.01) G03F 1/00 (2006.01)
Patent
CA 2370911
The present invention relates to a method of producing an optical fiber-processing phase mask having minimized connection errors that may degrade the spectral line shape and group delay characteristics of an optical fiber diffraction grating fabricated by using the phase mask. The present invention provides a method of producing an optical fiber-processing phase mask having a repeating pattern of grating-shaped grooves and strips provided on one surface of a transparent substrate, so that diffracted light produced by the repeating pattern is applied to an optical fiber to fabricate a diffraction grating in the optical fiber by interference fringes of diffracted light of different orders. In making a mask having a plurality of juxtaposed patterns (P1 to P5) having a linearly or nonlinearly increasing or decreasing pitch and a uniform groove-strip width ratio, multiple exposure is carried out to minimize difference between the pitch at the joint between patterns having different pitch data and the pitch in each individual pattern.
L'invention concerne un procédé de fabrication d'un masque de phase utilisé dans le façonnage de fibres optiques, dans lequel l'erreur dépendant de plusieurs variables détériorant la forme d'onde spectrale et les caractéristiques de temps de propagation de groupe d'un réseau de diffraction de fibre optique sont réduites. Un côté d'un substrat transparent comporte un motif répétitif de type treillis avec des rainures et des projections, une fibre optique est exposée à une lumière diffractée par le motif répétitif, fabriquant ainsi un réseau de diffraction dans la fibre optique à travers les franges d'interférence des lumières diffractées de différents ordres. Lorsqu'un masque dans lequel plusieurs motifs (P¿1?-P¿5?) possédant un rapport constant entre les largeurs des rainures et les saillies disposées de façon parallèle et un pas augmentant de façon linéaire ou non linéaire, l'exposition multiplex est effectuée de manière à réduire la différence entre le pas des variables entre les motifs présentant des données de pas différentes et le pas d'un motif individuel.
Komukai Tetsuro
Kurihara Masaaki
Nakazawa Masataka
Segawa Toshikazu
Cassan Maclean
Dai Nippon Printing Co. Ltd.
Nippon Telegraph And Telephone Corporation
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1850837