C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
G
C08G 77/38 (2006.01) C07F 7/08 (2006.01) C07F 7/18 (2006.01) C07F 7/20 (2006.01) C08G 77/06 (2006.01) C08G 77/10 (2006.01) C08J 11/18 (2006.01)
Patent
CA 2180104
Disclosed are a process which comprises reacting a high molecular weight polyorganosiloxane or a composition containing the same with an alkoxysilane and/or a partially hydrolyzed condensate thereof at a temperature of lower than 300 °C in the presence of an alcoholate compound and recovering the resulting organoalkoxysilane and, in addi- tion thereto, at least one of a distillable polyorgano- siloxane low molecular weight compound, a non-volatile liquid polyorganosiloxane and a silica; and a process which comprises reacting a high molecular weight polyorganosilox- ane or a composition containing the same with an alcoholate compound at a temperature of 50 to 150 °C in an anhydrous state and recovering the resulting distillable polyorgano- siloxane low molecular weight compound and, in addition thereto, at least one of an organoalkoxysilane and a non- volatile liquid polyorganosiloxane.
L'invention concerne un procédé permettant de récupérer un organoalcoxysilane et, si nécessaire, également au moins un élément sélectionné parmi un polyorganosiloxane oligomère distillable, un polyorganosiloxane liquide non volatile et le dioxyde de silicium, tous ces éléments étant formés par la réaction d'un polyorganosiloxane de haute masse moléculaire, ou d'une composition le contenant, avec un alcoxysilane et/ou un produit partiel d'hydrolyse et de condensation de celui-ci, à une température inférieure à 300 ~C, en présence d'un alcoolate. L'invention concerne également un procédé permettant de récupérer un polyorganosiloxane oligomère distillable et, si nécessaire, également soit un organoalcoxysilane ou un polyorganosiloxane liquide non volatile, ou bien les deux, ces trois éléments étant formés par la réaction d'un polyorganosiloxane de haute masse moléculaire, ou d'une composition le contenant, avec un alcoolate, à une température de 50-150 ~C, à l'état anhydre.
Cho Toshitsura
Cho Tsurahide
Nishida Makoto
Ohkawa Nobuaki
Ohta Yoshiro
Sim & Mcburney
Tama Chemicals Co. Ltd.
Toshiba Silicone Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1427365