C - Chemistry – Metallurgy – 09 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
09
D
C09D 133/08 (2006.01) C08K 5/36 (2006.01) C08K 5/51 (2006.01) C09D 7/12 (2006.01) C09D 133/12 (2006.01) C09D 135/06 (2006.01) C09D 201/00 (2006.01)
Patent
CA 2625067
The invention also relates to a method to increase stain resistance and penetration resistance of aqueous coating compositions which method comprises providing a coating composition which contain at least one pigment, at least one film-forming polymer in the form of an aqueous polymer dispersion and at least one anionic surfactant, wherein the anionic surfactant comprises at least 85 % by weight, preferably at least 90 % by weight, more preferably at least 95 % by weight, based on the total weight of ani- onic surfactant in the coating composition, of at least one anionic surfactant S, which is selected from semi-esters of sulfuric acid or phosphoric acid with an alcohol, which alcohol carries at least one alkyl radical having from 8 to 30 carbon atoms or an alkyl substituted phenyl radical wherein alkyl has from 4 to 30 carbon atoms and which alco- hol may carry an oligo-C2-C3-alkylene-ether group provided that the number of repeat- ing units in the oligo-C2-C3-alkylene- ether group is at most 15, or a salt thereof.
L'invention concerne un procédé pour augmenter la résistance aux taches et la résistance à la pénétration de compositions de revêtement aqueux lequel procédé comprend de produire une composition de revêtement qui contient au moins un pigment, au moins un polymère filmogène sous la forme d'une dispersion aqueuse de polymère et au moins un tensioactif anionique, le tensioactif anionique comprenant au moins 85 % en poids, de préférence au moins 90 % en poids, de façon plus particulièrement préférable au moins 95 % en poids, sur la base du poids total du tensioactif anionique présent dans la composition de revêtement, d'au moins un tensioactif anionique S, lequel est sélectionné parmi des semi-esters de l'acide sulfurique ou de l'acide phosphorique avec un alcool, lequel alcool porte au moins un radical alkyle ayant de 8 à 30 atomes de carbone ou un radical phényle substitué par un alkyle dans lequel l'alkyle a de 4 à 30 atomes de carbone et lequel alcool peut porter un groupe oligo(alkylène en C2-C3)éther à condition que le nombre de motifs présents dans le groupe oligo(alkylène en C2-C3)éther soit d'au maximum 15, ou d'un sel de celui-ci.
Allen Jonathon Shane
Catterall Gregory John
Chowdhry Mubarik Mahmood
Christie David
Redfern David
Basf Se
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1867311