Method to monitor and control chemical treatment of...

G - Physics – 05 – D

Patent

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G05D 24/00 (2006.01) G01N 27/00 (2006.01) G01N 29/036 (2006.01) G01N 33/18 (2006.01) G01N 33/28 (2006.01) G05D 7/00 (2006.01) G05D 11/00 (2006.01)

Patent

CA 2222046

Thickness-shear mode resonators which simultaneously measure mass deposition and fluid properties can be utilized to monitor petroleum processing, petrochemical and water treatment systems. Specialty chemical additive materials can be accurately and instantaneously added to control conditions detected by the thickness-shear mode resonators. The thickness-shear mode resonators are piezoelectric crystals used in conjunction with oscillator circuitry that can determine mass as well as viscosity and/or density of a fluid in contact with the piezoelectric surface.

Résonateurs vibrant en mode de cisaillement en épaisseur qui mesurent simultanément le dépôt de masses et les propriétés de liquides, pouvant être employés pour contrôler le traitement du pétrole, de produits pétrochimiques et de systèmes de traitement des eaux. Des additifs composés de spécialités chimiques peuvent être ajoutés de façon précise et immédiate pour maîtriser les conditions détectées par les résonateurs vibrant en mode de cisaillement en épaisseur. Ces résonateurs sont des cristaux piézo-électriques employés parallèlement à des circuits oscillateurs pouvant déterminer la masse, la viscosité et/ou la densité d'un liquide se trouvant en contact avec une surface piézo-électrique.

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Profile ID: LFCA-PAI-O-1640863

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