Methods and apparatus for generating dither mask through...

H - Electricity – 04 – N

Patent

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Details

H04N 1/405 (2006.01)

Patent

CA 2568500

Techniques for generating dither masks are provided. A dither mask is generated by selecting a sequence of at least three original patterns comprising pixels of at least one of a first color and a second color. At least two patterns are interpolated to generate interpolated patterns in the sequence between the at least three original patterns. If a pattern having at least one specified characteristic exists in the sequence, the steps of interpolating between at least two patterns, and determining if a pattern having at least one specified characteristic exists in the sequence, are repeated. The interpolation is between at least one pattern from each side of the pattern having at least one specified characteristic in the sequence.

L'invention concerne des techniques pour créer des masques de juxtaposition. Selon l'invention, un masque de juxtaposition est créé par sélection d'une séquence constituée d'au moins trois motifs originaux comprenant des pixels d'au moins une première couleur et d'une deuxième couleur. Au moins deux motifs sont interpolés pour permettre la création de motifs interpolés dans la séquence entre les trois motifs originaux. Si un motif présentant au moins une caractéristique spécifiée existe dans la séquence, les étapes consistant à réaliser une interpolation entre au moins deux motifs et à déterminer si un motif présentant au moins une caractéristique spécifiée existe dans la séquence, sont répétées. L'interpolation est réalisée sur au moins un motif provenant de chaque côté du motif présentant au moins une caractéristique spécifiée dans la séquence.

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