C - Chemistry – Metallurgy – 25 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
25
D
C25D 11/00 (2006.01) C25D 5/18 (2006.01) C25D 11/02 (2006.01) C25D 11/26 (2006.01)
Patent
CA 2472155
Methods for anodizing sintered valve metal anodes for use in wet electrolytic capacitors implemented in implantable medical devices (IMDs). The methods generally include immersing a pressed valve metal anode in an anodizing electrolyte and developing an anode-electrolyte system. Subsequently, subjecting the anode-electrolyte system to a potential that is ramped up to a target voltage in a pulsed fashion and delivering voltage potential pulses to the anode. The pulses are preferably decreased in pulse width as the potential increases. The pulse width of the applied pulses is preferably defined by means of a duty, such that the applied pulse duty cycle is substantially 100% initially and declines over the formation time as the formation voltage increases to the target potential to substantially 1.0% or less. The pulses are preferably applied for a hold time following achievement of the target formation potential, as the pulse current declines toward zero current flow.
La présente invention concerne des procédés d'anodisation d'anodes en métal de valve fritté destinées à des condensateurs à électrolyte liquide mis en oeuvre dans des dispositifs médicaux implantables. Selon les procédés de l'invention, en général on immerge une anode en métal de valve formée à la presse dans un électrolyte d'anodisation et on développe un système d'anode et électrolyte. On soumet ensuite ledit système d'anode et électrolyte à un potentiel qui augmente en rampe jusqu'à une tension cible de manière pulsée et on délivre des impulsions de potentiel de tension à l'anode. De préférence, la largeur des impulsions diminue au fur et à mesure que le potentiel augmente. La largeur des impulsions est de préférence définie au moyen d'un cycle de service tel que le cycle de l'impulsion appliquée représente sensiblement 100 % au départ et décline avec le temps de formation jusqu'à sensiblement 1,0 %, voire moins, au fur et à mesure que la tension de formation augmente jusqu'au potentiel cible. Les impulsions sont de préférence appliquées pendant un temps de maintien suivant l'obtention du potentiel de formation cible, tandis que le courant d'impulsion décline jusqu'à un flux de courant nul.
Medtronic Inc.
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1842459