Methods of operating surface reactors and reactors employing...

B - Operations – Transporting – 01 – J

Patent

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B01J 19/18 (2006.01) B01J 19/12 (2006.01)

Patent

CA 2536209

New methods of operating surface reactors, and such reactors, particularly spinning disk reactors, require that a first reactant is fed to a reactor surface (20) and forms a thin radially outward moving film (60) thereon in a reaction passage (42) formed between the reaction surface (20) and a parallel, closely spaced (less than 1 mm) retaining surface (40). The passage thickness is precisely controllable and the surfaces (20, 40) move relative to one another so that strong shear is applied to the material between them. A second reactant is fed to the surface (20) as a second thin film (65) that as it enters the first film (60), preferably perpendicularly, it is immediately merged therewith along a correspondingly very narrow interaction line (66) by the shear at a rate such as to break up molecular clusters in the films, so that their molecules can aggressively and completely interact by forced interdiffusion. In spinning disk (18) apparatus the first film (60) is fed along the spin axis (14), while subsequent films (65, etc.) are fed at respective distances from the axis (14) such that there is adequate shear for the molecular cluster disruption. Preferably each film (65, etc.)after the first (60) is fed into the reaction passage (42) through a respective thin annular nozzle producing a thin circular film (65) that simultaneously merges with the first film (60) along its entire length.

L'invention concerne des nouveaux procédés destinés à mettre en oeuvre des réacteurs de surface, ainsi que ces réacteurs, et notamment des réacteurs à disque tournant. Selon ces procédés, un premier réactif est acheminé vers une surface de réacteur (20) et forme une fine couche à déplacement radial vers l'extérieur (60) sur celle-ci dans un passage de réaction (42) formé entre la surface de réaction (20) et une surface de retenue parallèle rapprochée (moins de 1 mm) (40). L'épaisseur du passage peut être régulée avec précision et les surfaces (20, 40) se déplacent l'une par rapport à l'autre de sorte qu'un fort cisaillement soit appliqué sur la matière intermédiaire. Un second réactif est acheminé vers la surface (20) sous la forme d'une seconde fine couche (65) qui, lorsqu'elle entre dans la première couche (60), de préférence perpendiculairement, est immédiatement fusionnée avec celle-ci le long d'une ligne d'interaction (66) très étroite correspondante sous l'effet du cisaillement à une vitesse permettant de fragmenter les agrégats moléculaires dans les couches, leurs molécules pouvant ainsi interagir avec agressivité et de manière complète par interdiffusion forcée. Dans un appareil à disque tournant (18), la première couche (60) est acheminée le long de l'axe de rotation (14), les couches suivantes (65, etc.) étant acheminées à des distances respectives de l'axe (14) en vue de la production d'un cisaillement approprié pour la dissociation des agrégats moléculaires. De préférence, chaque couche (65, etc.) après la première couche (60) est acheminée dans le passage de réaction (42) par l'intermédiaire d'une fine buse annulaire respective produisant une fine couche circulaire (65) qui, simultanément, est fusionnée avec la première couche (60) sur toute sa longueur.

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Profile ID: LFCA-PAI-O-1901685

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