C - Chemistry – Metallurgy – 01 – B
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
01
B
C01B 33/146 (2006.01) B41M 5/00 (2006.01) B41M 5/52 (2006.01) C01B 33/14 (2006.01)
Patent
CA 2343260
A stable silica sol having an SiO2 concentration of 1 to 50% by weight and containing liquid-medium dispersed moniliform colloidal silica particles each having 3 or more as a ratio of D1/D2 of a particle diameter (D1 nm) measured by a dynamic light scattering method to a mean particle diameter (a particle diameter measured by a nitrogen absorption method: D2 nm) where D1 is 50 to 500 nm, and which are comprised by spherical colloidal silica particles having a mean particle diameter of 10 to 80 nm and metal oxide-containing silica bonding these spherical colloidal silica particles, and in which the spherical colloidal silica particles link in rows in only one plane, process for producing such and a coating composition for ink receiving layers containing such a silica sol and an ink jet recording medium.
L'invention concerne une solution colloïdale de silice, stable, possédant une teneur en SiO2 de l'ordre de 1 à 50 % en poids, et contenant des particules sphériques de silice colloïdale dont le diamètre particulaire moyen est de l'ordre de 10 à 80 nm ainsi qu'une silice contenant des oxydes métalliques fixant ces particules sphériques de silice colloïdale, le rapport entre le diamètre particulaire déterminé par le procédé de diffusion dynamique de la lumière (D1, nm) et le diamètre particulaire moyen des particules sphériques de silice colloïdale (D2, nm; mesuré par un procédé d'adsorption d'azote), à savoir D1/D2, est de l'ordre de 3 ou plus, D1 étant compris entre 50 et 500 nm; les particules sphériques de silice colloïdale sont liées en rangées dispersées dans un milieu liquide, chaque rangée étant située sur un plan seulement. L'invention concerne encore un procédé de production de cette solution colloïdale de silice, une composition de revêtement contenant cette solution, utilisée pour former une couche réceptrice d'encre, ainsi qu'un support d'enregistrement de jets d'encre.
Ema Kiyomi
Kashima Yoshiyuki
Ohmori Yutaka
Watanabe Yoshitane
Gowling Lafleur Henderson Llp
Nissan Chemical Industries Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1755028