H - Electricity – 05 – H
Patent
H - Electricity
05
H
H05H 1/30 (2006.01)
Patent
CA 2462067
An induction plasma torch comprises a tubular torch body, a gas distributor head located at the proximal end of the torch body for supplying at least one gaseous substance into the chamber within the torch body, a higher frequency power supply connected to a first induction coil mounted coaxial to the tubular torch body, a lower frequency solid state power supply connected to a plurality of second induction coils mounted coaxial to the tubular torch body between the first induction coil and the distal end of this torch body. The first induction coil provides the inductive energy necessary to ignite the gaseous substance to form a plasma. The second induction coils provide the working energy necessary to operate the plasma torch. The second induction coils can be connected to the solid state power supply in series and/or in parallel to match the impedance of this solid state power supply.
La présente invention concerne un chalumeau à plasma par induction qui comprend un corps de chalumeau tubulaire, une tête de distribution de gaz située à l'extrémité proximale du corps du chalumeau de façon à fournir au moins une substance gazeuse dans la chambre à l'intérieur du corps du chalumeau, une alimentation de puissance haute fréquence connectée à une première bobine d'induction montée de manière coaxiale par rapport au corps de chalumeau tubulaire, une alimentation de puissance intégrée basse fréquence connectée à une pluralité de secondes bobines d'induction montées de manière coaxiale par rapport au corps de chalumeau tubulaire entre la première bobine d'induction et la partie distale de ce corps de chalumeau. La première bobine d'induction fournit l'énergie inductive nécessaire pour enflammer la substance gazeuse de façon à former un plasma. Les secondes bobines d'induction fournissent l'énergie de travail nécessaire pour faire fonctionner le chalumeau à plasma. Ces secondes bobines d'induction peuvent être connectées à l'alimentation de puissance intégrée en série ou en parallèle de façon à correspondre à l'impédance de cette alimentation de puissance intégrée.
Boulos Maher I.
Jurewicz Jerzy W.
Bkp Gp
Tekna Plasma Systems Inc.
Universite de Sherbrooke
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1371767