B - Operations – Transporting – 42 – D
Patent
B - Operations, Transporting
42
D
B42D 15/10 (2006.01) B44C 1/14 (2006.01)
Patent
CA 2597028
The invention relates to a method for producing a multilayer body (100) having a partially molded first layer (3m) and to a multilayer body produced according to said method. The method is characterized in that a diffractive first relief structure (4) is molded into a first area of a replicating layer (3) of the multilayer body, the first layer (3m) is applied to the replicating layer (3) in the first area and in a second area in which the first relief structure is not molded into the replicating layer (3), a photosensitive layer (8) is applied to the first layer (3) or a photosensitive washing mask (8) is applied as the replicating layer, the photosensitive layer or the washing mask are irradiated through the first layer (3m), thereby irradiating the photosensitive layer or washing mask (8) differently in the first and in the second area depending on the first relief structure, and the first layer (3m) is removed, while using the irradiated photosensitive layer or the washing mask (8) as the mask layer, in the first area, but not in the second area, or is removed in the second area, but not in the first area.
Procédé de fabrication d'un corps multicouche (100) pourvu d'une première couche (3m) partiellement structurée et corps multicouche fabriqué de cette manière. Selon la présente invention, une première structure en relief (4) de diffraction est formée dans une première zone d'une couche de réplication (3) du corps multicouche, la première couche (3m) est appliquée sur la couche de réplication (3) dans la première zone et dans une seconde zone dans laquelle la première structure en relief n'est pas formée dans la couche de réplication (3), une couche photosensible est appliquée sur la première couche (3) ou bien un masque de lavage photosensible est appliqué en tant que couche de réplication, la couche ou le masque de lavage photosensible est éclairé à travers la première couche (3m) si bien que la couche ou le masque de lavage photosensible est éclairé de manière différente dans les première et seconde zones en raison de la première structure en relief, et la première couche (3m) est éliminée, à l'aide de la couche ou du masque de lavage photosensible éclairé en tant que couche de masquage, dans la première zone mais pas dans la seconde, ou dans la seconde zone mais pas dans la première.
Schilling Andreas
Staub Rene
Tompkin Wayne Robert
Gowling Lafleur Henderson Llp
Ovd Kinegram Ag
LandOfFree
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